zuì xiǎo pù guāng liàng · ㄗㄨㄟˋ ㄒㄧㄠˇ ㄆㄨˋ ㄍㄨㄤ ㄌㄧㄤˋ
| 词语 | 最小曝光量 |
|---|---|
| 拼音 | zuì xiǎo pù guāng liàng |
| 拼音字母 | zui xiao pu guang liang |
| 拼音首字母 | zxpgl |
| 注音 | ㄗㄨㄟˋ ㄒㄧㄠˇ ㄆㄨˋ ㄍㄨㄤ ㄌㄧㄤˋ |
| 注音符号 | ㄗㄨㄟ ㄒㄧㄠ ㄆㄨ ㄍㄨㄤ ㄌㄧㄤ |
| 注音首符号 | ㄗㄒㄆㄍㄌ |
最小曝光量,完成下述作用所必需的光学辐照(能够产生光化学反应的电磁辐射)的总累积能量:(1)使给定厚度的胶膜恰好完全溶解复制一个正性光学掩模版;(2)使给定厚度抗蚀剂胶膜恰好不溶解复制一个负性光学掩模版。
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